福尼克斯公司（光电子公司）Photronics Inc.(NASDAQ:PLAB)创立于1969年，前称Photronic Labs, Inc.，，于1990年改为现用名，总部位于美国康涅狄格州Brookfield，全职雇员1,908人，连同其子公司在美国、中国大陆、台湾、韩国、欧洲及其他国际市场从事半导体光掩模（Photomask，也称光罩）产品和服务的制造和销售业务。Photronics 公司提供用于制造集成电路和平板显示器（FPD）的光掩模，以及用于将电路图案转移到半导体晶圆和FPD基板上的光掩模。公司还提供电气和光学元件。
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福尼克斯 Photronics, Inc.(PLAB)美股百科
Photronics, Inc. 是一家半导体制造公司，以光掩模/掩膜版的供应商而闻名。光掩模/掩膜版是用于光刻工艺的高精度“母版”，用于将电路图案转移到硅晶圆上，并在显示器制造中对各层进行图案化。Photronics 业务遍及全球，主要服务于两大核心终端市场：集成电路 (IC) 和平板显示器 (FPD)，是少数几家在两大领域都拥有相当规模的大型独立光掩模专业公司之一。
在集成电路光掩模业务方面，Photronics 生产各种光掩模，涵盖成熟工艺节点到先进工艺节点。其产品组合包括标准 1 倍和 5 倍光掩模，以及更复杂的“尖端”产品，例如带有光学邻近效应校正 (OPC) 的二元掩模、相移掩模和其他旨在提高成像精度（尤其是在特征尺寸不断缩小的情况下）的专用掩模。Photronics 研发重点是实现约 14 纳米及更小尺寸的几何结构，包括满足极紫外光刻 (EUV) 相关要求的技术路线，这反映了先进逻辑芯片和存储芯片对更高精度和更复杂工艺的需求。
Photronics 的平板显示器 (FPD) 光掩模业务为显示器生态系统提供支持，其生产的光掩模用于制造从移动设备到大屏幕电视等各种产品的面板。随着显示技术朝着更高分辨率、新外形尺寸和新架构发展，Photronics 致力于满足先进显示技术的需求；其提交的文件提及了与更大尺寸基板“代次”（例如，第 8 代/第 10 代）相关的开发工作，以及微型/迷你 LED 和用于 AMOLED 等先进移动显示器的复杂光掩模等新兴领域的机遇。
Photronics 的竞争优势在于精密制造、良率、交货速度和本地化生产能力。该公司在北美、欧洲和亚洲设有多个生产基地，以便为靠近其晶圆厂和显示器生产线的客户提供服务。除了生产光掩模之外，该公司还提供辅助/维护服务，帮助客户确保光掩模和掩膜版长期保持符合规格的性能。
Photronics通过其销售人员和客户服务代表向半导体和FPD设计商、制造商和代工厂销售产品。
福尼克斯 Photronics, Inc.(PLAB)历史百科
1969年，Photronic Labs, Inc.公司在康涅狄格州丹伯里成立。
1978年，为了应对快速增长的业务需求，公司从Danbury搬迁到位于康涅狄格州Brookfield。
1982年，第一台电子束光刻系统——MEBES I——安装完毕。
1985年，为了满足持续扩张的需求，Brookfield园区新增了一栋面积达2万平方英尺的建筑。
1987年，Photronic Labs, Inc. IPO上市。该公司已在纳斯达克上市，股票代码为 PLAB。
1989年，收购马丁·玛丽埃塔公司（Martin Marietta Corporation）内部的光掩模制造业务，并整合到布鲁克菲尔德工厂。
1990年，Photronic Labs, Inc.更名为Photronics, Inc.。公司完成了第二次公开发行股票。
1991年，Photronic 收购了Analog Devices公司的内部光掩模制造业务。完成了第三次公开发行股票。
1992年，收购了 Unisys Corporation 内部的光掩模制造业务和相关资产。
1993年，Photronics 收购了 Toppan Printonics（前身为德州仪器光掩模工厂）和 Raytheon 公司的光掩模业务。
1994年，Photronics 收购了独立光掩模制造商 Hoya Micro Mask, Inc.；同年，德克萨斯州艾伦市举行了奠基仪式。
1995年，Photronics 收购 Microphase Laboratories, Inc. 和 GEC Plessey Semiconductors 的内部光掩模制造业务（这是公司在北美以外的首个全资制造基地）。Photronics 公司宣布计划在新加坡开展制造业务。
1996年，Photronics 公司对 PK Ltd. 进行少数股权投资，从而进入韩国市场和平面显示器市场。在欧洲，该公司收购了位于瑞士纳沙泰尔的 CSEM Litomask 公司的光掩模制造业务，并在英国曼彻斯特破土动工建设新厂。
1997年，Photronics 收购了摩托罗拉在美国的内部光掩模制造业务，以及位于德国Dresden的独立光掩模制造商 MZD 公司。
1998年，Photronics 成为首家加入 IMEC 的光掩模供应商。IMEC 是一家总部位于欧洲的非营利性研究机构。
1999年，Photronics 公司和 IBM 公司成立了下一代光刻掩模技术卓越中心（NGL-MCOC）。
2000年，Photronics 收购了台湾精密半导体光罩股份有限公司 (Precision Semiconductor Mask Corporation，PSMC) 的多数股权，并完成了与 Align-Rite International, Inc. 的合并，从而创建了一家规模最大、增长最快的战略光掩模供应商。
2001年，Photronics 与麻省理工学院林肯实验室（MIT Lincoln Laboratory）合作开发了Sub-Wavelength Reticle Solutions™相移光掩模，该技术能够制造小于 100 纳米的特征尺寸。Photronics 收购了 Conexant 公司的内部光掩模制造工厂。
2002年，Photronics 公司推出 CyberMask™，这是一套专有的软件套件，可帮助其与半导体制造商实现无缝对接，接收并准备用于光掩模制造的集成电路设计数据。
2004年，罗切斯特理工学院（Rochester Institute of Technology）与 Photronics 公司合作，利用浸没式光刻系统成功实现了 45 纳米节点晶圆成像技术的首次演示。
2005年，Photronics 公司开始建造新的平板显示器掩模制造工厂，以将平板显示器制造基础设施扩展到台湾。
2006年，Photronics 公司宣布与 Micron Technology（MP Mask Technology Center）成立合资企业，共同开发和生产尖端光掩模；并在爱达荷州博伊西市为其新建的、完全自主拥有的先进工厂举行了奠基仪式。
2007年，Photronics 公司扩大了位于台湾台中市的平板显示器制造工厂的生产能力，并增加了 G7.5 生产线。
2014年，Photronics 公司与大日本印刷公司在台湾成立了 PDMC 合资企业，旨在成为战略意义重大的台湾市场中最大的商业光掩模供应商。
2015年，Photronics 公司任命 Peter Kirlin 博士为首席执行官，并与美光科技公司达成战略供应和技术合作协议。
2016年，Photronics 公司宣布投资 1.6 亿美元在中国厦门建设一座最先进的集成电路制造工厂。
2017年，Photronics 公司宣布投资 1.6 亿美元在中国合肥建设一座最先进的平板显示器制造工厂。
2018年，Photronics 与大日本印刷公司成立第二家合资企业，将始于 2014 年在台湾建立的成功集成电路合作伙伴关系扩展到中国大陆，涵盖在华的所有销售、营销、分销和制造业务，包括位于厦门的工厂。
2019年，Photronics 公司庆祝两家中国高端制造工厂盛大开业并提高产能。
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