荷兰半导体设备制造公司:Nearfield Instruments B.V.

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Nearfield Instruments B.V.成立于2016年,总部位于荷兰鹿特丹,研发并供应用于半导体制造过程控制的计量与检测设备。Nearfield Instruments 设计、集成并维护先进的测量系统,协助芯片制造商监控和优化生产流程。其技术基于高通量扫描探针显微镜(SPM)原理,涵盖了针对复杂三维半导体结构的无损测量解决方案。此外,Nearfield Instruments 还开展精密机电一体化、运动控制、隔振以及自动化探针操作等领域的研究与开发,旨在提升测量精度与生产效率。

荷兰半导体设备制造公司:Nearfield Instruments B.V.

#Nearfield Instruments

Nearfield Instruments B.V.美股百科

Nearfield Instruments 于 2016 年从 TNO 分拆成立,总部位于荷兰 Rotterdam,在台湾、韩国、日本、新加坡、美国和比利时开展业务,与客户共同进行研发,并为全球客户提供支持。Nearfield Instruments 在全球拥有约 450 名员工,并与世界领先的半导体制造商和研究合作伙伴密切合作。

Nearfield Instruments 为半导体行业开发先进的 3D 计量与检测解决方案,专注于下一代扫描探针显微镜系统,可提供产线内 3D 纳米级计量。Nearfield 的解决方案专为无缝集成到大规模制造环境而设计,结合了强大的自动化能力、快速测量周期以及与晶圆厂标准的兼容性,以支持下一代半导体创新。

Nearfield Instruments 专有的 QUADRA 平台可实现非破坏性、高通量的原子力显微镜(AFM)检测,并具备完整的 3D 成像能力,包括对高深宽比沟槽、GAA 凹槽、通孔以及多层堆叠等复杂结构进行侧壁测量,这些结构对于先进逻辑芯片、存储器和 3D IC 封装应用至关重要。

随着 AI 持续扩展,半导体行业必须在大幅提升计算性能的同时降低能耗,并让数据传输变得更快、更高效。Nearfield 的创新计量与检测解决方案能够提供先进工艺控制所需的精准、可靠且高通量的测量能力,从而提升良率并确保可制造性。通过为高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)、环绕栅极(GAA)、互补场效应晶体管(CFET)架构以及混合键合 3D 集成提供关键测量能力,Nearfield 在推动下一代 AI 计算实现可规模化、节能、可制造和可靠方面发挥着核心作用。

Nearfield Instruments B.V.产品百科

Quadra 自动化高通量三维扫描测头计量

  • 3D——高深宽比 CD 计量:制造环绕栅极场效应晶体管(Gate-All-Around FET)所面临的主要计量挑战,包括高深宽比工艺、亚表面 3D 结构以及极小间距。Nearfield Instruments 新开发的 Feedforward Trajectory Planner(FFTP)成像模式,可实现器件上的非破坏性测量,用于 3nm 及更先进 GAA FET 的产线内工艺监控。
  • 精度——稳定性与重复性:作为一项基准,业界过去常使用“零扫描”下的“噪声底”来评估 AFM 性能。但噪声底并不能代表设备的精度、重复性、高速成像中强扫描台反作用力造成的变化、晶圆重新装载带来的影响,以及长期漂移等因素,而这些都会影响测量质量。QUADRA 架构中的革命性机电一体化设计,使其能够实现行业领先的测量精度和可重复性。
  • 吞吐量——速度与生产效率:获取信息所需的时间至关重要。QUADRA 采用多台微型化高速 SPM 并行工作的架构,在目标型产线内计量应用中,与其他自动化单探针 AFM 计量工具相比,吞吐量提升了 100 倍。它还具备高速导航至目标位置(POI)、探针更换与对准,以及独特的数据可视化功能,从而进一步提高生产效率。

Nearfield Instruments B.V.融资百科

2017年9月5日,Nearfield Instruments B.V.完成1000万欧元A轮融资,由Innovation Industries和Samsung Ventures共同投资。

2019年11月13日,Nearfield Instruments B.V.完成1100万欧元B轮融资,Innovation Industries和Samsung Ventures共同参与。

2021年6月7日,Nearfield Instruments B.V.完成Invest-NL领投的1750万欧元B+轮融资,Innovation Industries跟投。

2021年7月30日,Nearfield Instruments B.V.获得来自Eugene Investment和Innovation Industries的1200万欧元风险投资资金。

2023年5月22日,Nearfield Instruments B.V.获得1100万美元风险投资资金,TNO、Invest-NL和Innovation Industries共同投资。

2024年7月15日,Nearfield Instruments B.V.获得来自EIC Accelerator的投资和捐助。

2024年7月18日,Nearfield Instruments B.V.完成Temasek和Walden Catalyst领投的1.35亿欧元C轮融资,ING Group、Invest-NL、Innovation Industries和M&G Investments跟投。

2026年6月22日,Nearfield Instruments B.V.完成Fidelity Management & Research Company领投的3.8亿美金D轮融资,Temasek、Walden Catalyst Ventures、Innovation Industries、M&G Investments、Invest-NL、Qatar Investment Authority(QIA)、TNO Ventures 和 ING Group 跟投。估值达到 16 亿美元。

Nearfield Instruments B.V.美股投资

非上市公司,等待Nearfield Instruments B.V. IPO上市。

参考资料:

  1. 公司官网
  2. 美股百科
  3. 更多资讯
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  • 本文由 美股百科 发表于2026年7月7日
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