日本半导体设备公司:斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735.T)

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日本半导体设备公司:斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735.T) | 美股之家 - 港股美股开户投资百科全书

株式会社斯库林集团(网屏公司)SCREEN Holdings Co., Ltd. (OTCPK:DINRF、TYO:7735)成立于1943年,前称Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.(大日本情报屏制造有限公司),于2014年10月改为现用名,总部位于日本京都,全职雇员6,910人,在日本、韩国、中国大陆、台湾、美国、欧洲及全球范围内,从事半导体生产设备的开发、制造与销售业务。

日本半导体设备公司:斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735.T)

斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735)美股百科

SCREEN Holdings Co., Ltd.是一家日本半导体及电子企业,从事半导体制造设备、平板显示器制造设备、存储介质(如光盘)以及精密技术制造设备的生产与销售。SCREEN Holdings在日本拥有多个据点,在Kyoto、Tokyo的Chiyoda区Kudanminami、Tokyo的Koto区Etchūjima设有办公机构,并在Kyoto、滋贺县Yasu、滋贺县Hikone以及滋贺县Taga设有生产工厂。

SCREEN Holdings集团在日本以及海外拥有众多子公司,分布于美国、英国、德国、荷兰、中国、中国香港、韩国、中国台湾、新加坡和澳大利亚。韩国最大的半导体制造商SEMES Co., Ltd.最初是与SCREEN基于其技术共同设立的合资企业。目前双方已不存在资本关系,但SEMES仍持续使用SCREEN的技术,其收入主要来自Samsung在清洗设备方面的订单。

SCREEN Holdings Co., Ltd.通过半导体生产设备(Semiconductor Production Equipment)、图文艺术设备(Graphic Arts Equipment)、显示器生产设备及涂布设备(Display Production Equipment and Coater),以及印刷电路板(PCB)相关设备(Printed Circuit Board (PCB)-Related Equipment)等业务板块开展运营。

斯库林集团公司提供晶圆清洗系统,包括湿法处理设备、旋转处理设备和旋转刷洗设备;涂胶/显影设备及喷涂设备;退火系统;测量系统(如椭偏法和光谱法薄膜厚度测量系统);检测系统(包括晶圆图形检测系统);以及先进封装光刻设备(包括面板级封装用直写成像系统)等,同时还提供显示器生产设备。

此外,斯库林集团公司还提供各类涂布系统,包括狭缝涂布机、卷对卷系统、真空薄膜沉积设备、湿法工艺设备、干燥/加热设备及曝光设备;高速喷墨设备、喷墨标签印刷系统、用于软包装的水性喷墨系统;热敏制版机;柔版印刷设备、混合AM/FM网点技术产品、工作流程解决方案、Hiragino字体、色彩打样系统及用户语音产品,并提供网络支持服务。

同时,斯库林集团公司还提供基于人工智能的高速搜索系统、词典生成系统以及文档质量提升解决方案,以及图像分析与文本挖掘可视化技术。

再者,斯库林集团公司还从事成像系统的开发与销售、用于平板设备的喷墨打印系统,以及器官移植用医疗设备的开发;并生产用于燃料电池和可充电电池的膜电极组件。

斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735)核心技术

SCREEN 的核心技术基于三大支柱:表面处理技术(核心为清洗)、直接绘图技术(光刻/激光成像)和图像处理技术。这三大技术奠定了其在半导体、显示器和印刷电路板制造设备领域的领先地位,特别是在全球半导体洗净设备市场具有极高的市占率。

1、表面处理技术 (Surface Processing Technology)

  • 洗净技术: SCREEN 在半导体清洗领域拥有全球领先的技术,特别是在单片清洗设备方面,能够实现高精度的微污染去除。
  • 涂布/显影: 在涂布显影流程中,通过模块化架构实现了高度的自动化集成。
  • 蚀刻技术: 提供先进的蚀刻工艺解决方案,主要用于半导体晶圆的处理。

2、直接绘图技术 (Direct Imaging Technology)

  • 激光成像: 在PCB(印刷电路板)和显示器制造领域,通过激光直接成像(DI)技术替代传统的掩膜光刻,提高生产精度和效率。

3、图像处理技术 (Image Processing Technology)

  • 高精度检测: 结合机器视觉与图像处理算法,对高密度电路板和半导体组件进行检测和测量。

斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735)历史百科

1868年 铜版雕刻师石田才次郎创立Ishida Kyokuzan Printing Works

1918年 石田才次郎的继任者石田敬三(后任Dainippon Screen Mfg. Works首任社长)的研究成果,促成Ishida Method Transfer Lithographic Film的制造与专利申请,这是一种用于石版转印的透明胶片凸版印刷技术

1934年 成立Ishida Kyokuzan Printing Co., Ltd.(现为Shashin Kagaku Co., Ltd.);取得用于摄影复制的玻璃网版雕刻方法专利,并成功在日本实现摄影复制用玻璃网版的生产

1937年 从Ishida Kyokuzan Printing Works分离出Glass Screen Research Division,成立Dainippon Screen Mfg. Works

1943年 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.从原组织分离并作为独立公司成立,由石田敬三担任负责人

1946年 开发出C-1木制工艺相机

1947年 石田德次郎被任命为公司第二任社长

1953年 建立Horikawa Factory(现为总部)

1955年 SCREEN成功将玻璃网版的精密技术应用于电视摄像机金属靶网的制造,正式进入电子领域

1958年 SCREEN成功实现接触网版的国产化量产

1959年 SCREEN开发出日本首台电子雕刻机

1962年 SCREEN在大阪证券交易所第二部和京都证券交易所上市;首次参加在德国举办的国际印刷技术展览会drupa

1963年 开始生产彩色电视显像管用金属阴影掩膜;完成Hikone Machine Factory建设(现为Hikone Site)

1964年 开发Auto Graver电子雕刻机

1965年 在Hikone Site建设Shadow Mask Factory

1966年 开发出日本首台国产电子彩色扫描仪Scanagraph I;开发用于半导体生产的Ambassador C-59超精密缩小相机,奠定进入半导体制造领域的基础

1967年 完成Kuze Factory建设(现为SCREEN SPE Tech Kuze Site)

1967年 在洛杉矶设立首家海外子公司DS America Inc.

1967年 在台湾Kaohsiung设立首家亚洲海外子公司Great Ocean Industry Co., Ltd.

1967年 在东京证券交易所第二部上市

1968年 开始量产用于Sony Trinitron彩色显像管的光栅栅极

1969年 在名古屋证券交易所第二部上市

1970年 开发AD-401超精密自动制图机,进入印刷电路板行业;在东京、大阪和名古屋证券交易所第一部上市

1971年 成立化学设备事业部,并开始销售用于污染防治的成套设备,包括废液处理设备

1973年 推出Scanagraph SG-701,这是日本首台国产直接式彩色扫描仪,成为畅销产品(GA)

1975年 开发用于半导体制造的EMW-322/411晶圆刻蚀设备(SPE)

  • 将Hikone Site的化学设备部门重组为电子设备部门(现为Hikone Site 1KF),以强化电子设备生产能力(Corporate)

1976年 通过开发载体式表面处理设备,SCREEN进入LCD面板制造领域(FT)

1977年 与Elna Ltd.共同开发全球最大规模的全自动印刷电路板生产线(PE)

1978年 通过开发用于半导体制造的Spinner系列光刻胶涂布设备,SCREEN全面进入半导体制造领域(SPE)

  • 在德国Hamburg设立Dainippon Screen (Deutschland) GmbH,作为欧洲销售与服务基地(Corporate)

1979年 开始生产计算机显示器所需的精密掩膜(Precision Components)

1980年 设立Kumiyama Factory(现为Kumiyama Site)(Corporate)

  • 在Hikone Site完成电子设备部门新厂房建设(Corporate)

1981年 开发Sigmagraph 2000,这是日本首个页面排版系统,成为SCREEN后续图像处理系统发展的基础(GA)

  • 在Amsterdam设立Dainippon Screen (Nederland) B.V.(现为SCREEN GP Europe B.V.)(Corporate)

1982年 为美国一家大型半导体制造商开发湿法处理设备,并一次性交付24台(SPE)

1983年 成立Dainippon Screen (Hong Kong) Co., Ltd.(SPE)

1984年 推出Scanagraph SG-608彩色扫描仪(GA)

1985年 总部研究楼建成(现为总部大楼)(Corporate)

  • 完成Rakusai Factory(现为Rakusai Site),强化半导体设备生产能力(Corporate)

1986年 开发Lambda Ace STM-602光谱薄膜厚度测量系统,进入半导体测量领域(SPE)

1987年 Scanagraph SG-608销量突破1,000台(GA)

1988年 开发全模块化结构湿法处理设备(SPE)

  • 出货SPW-812-A单片晶圆旋转处理设备(SPE)

1989年 石田彰被任命为公司第三任社长(Corporate)

  • 推出双面清洗系统RSW-612A(SPE)

1992年 Yasu Factory(现为Yasu Site)投产(Corporate)

1993年

  • 推出TaigaSPACE,这是日本首个国产印前系统(GA)
  • 开发SENTO Font Library(现为Hiragino字体)(GA)

1994年 SCREEN在客户满意度方面跻身全球半导体设备供应商前十(SPE)

1995年 SCREEN在销售额方面跻身全球半导体设备供应商前十(SPE)

1996年 成立D.S. NORTH AMERICA HOLDINGS, INC.(现为SCREEN North America Holdings, Inc.)以及半导体设备销售公司DNS ELECTRONICS, LLC(现为SCREEN SPE USA, LLC)(Corporate)

1997年 推出FC-3000批处理式300毫米晶圆清洗系统(SPE)

1998年

  • 推出PlateRite 8000热敏CTP制版机(GA)
  • 推出TruePress544,日本首台数字印刷系统(GA)
  • Taga Factory(现为Taga Site)投产(Corporate)

1999年 推出750系列TFT LCD面板制造设备,适用于5.5代玻璃基板(FT)

2000年

  • 宣布Hiragino字体被Apple的Mac OS X作为标准字体采用(GA)
  • 开发MP-3000单片300毫米晶圆清洗系统(SPE)

2001年 在Hikone Site完成Fab.FC-1(现为S3-1)(SPE)

2002年 导入公司内部公司制(Corporate)

  • 在中国设立DAINIPPON SCREEN ELECTRONICS (SHANGHAI) CO., LTD.(现为SCREEN Electronics Shanghai Co., Ltd.)(Corporate)

2003年

  • 推出PlateRite 8800热敏CTP设备(GA)
  • 推出RF3下一代晶圆涂胶/显影设备(FT)
  • 推出SU-3000单片晶圆清洗系统(SPE)

2004年 在中国Hangzhou的图文设备制造子公司开始工厂运营(GA)

2005年

  • 停止精密掩膜生产并退出掩膜业务(Precision Components)
  • 推出Mercurex多用途PCB直接成像系统(PE)

2006年

  • 在Hikone Site的Fab.FC-2(现为S3-2)和CS-1工厂投产(SPE/FT)
  • 建立WHITE CANVAS RAKUSAI研发基地(Corporate)
  • 推出Truepress Jet520喷墨印刷系统(GA)
  • 推出SU-3100单片晶圆清洗系统(SPE)

2007年 推出Truepress Jet650UV和Truepress Jet2500UV喷墨印刷系统,全面进入喷墨印刷市场(GA)

2008年

  • 在Hikone Site设立半导体工艺研发基地Process Technology Center(SPE)
  • 通过开发RE-8000光谱椭偏薄膜厚度测量系统,正式进入太阳能电池领域(FT)

2009年

  • SCREEN单片晶圆清洗设备全球市场份额超过60%(SPE)
  • 在LCD生产用涂布显影设备、湿法刻蚀设备和去胶设备领域取得全球市场第一(FT)

2010年

  • 开发用于LCD大尺寸玻璃基板的Levicoater涂布系统(FT)
  • 开发SU-3200单片晶圆清洗系统,实现化学喷淋清洗(SPE)

2011年 在Monzennakacho Site设立图文设备解决方案展示基地WHITE CANVAS MON-NAKA(GA)

2012年 推出Ledia 5 PCB直接成像系统(PE)

2013年 推出Cell3iMager高速三维细胞培养扫描仪,进入生命科学领域

2014年

  • 开发用于制药行业、可在药片上进行喷印的喷墨系统DP-i3000(New Businesses)
  • 公司转型为控股公司架构,并更名为SCREEN Holdings Co., Ltd.(Corporate)

2015年 推出用于汽车锻造零部件的自动外观检测系统IM-3100(HD)

2016年

  • 推出SU-3300单片晶圆清洗系统(SPE)
  • 加入联合国全球契约,宣布支持涵盖人权、劳工、环境和反腐败四大领域的十项原则(Corporate)
  • 开发RT系列燃料电池生产设备,加速进入燃料电池市场(New Businesses)

2017年

  • 推出用于第六代基板、专用于OLED面板生产的涂布/显影设备SK-E1500G和SK-E1500H(FT)
  • 推出用于高端HDI电路板的自动光学检测系统MIYABI 7(PE)

2018年

  • 在Hikone Site完成用于显示器生产及涂布设备的CS-2工厂(FT)
  • 在中国Changshu设立显示设备制造合资公司SCREEN FT Changshu Co., Ltd.(FT)

2019年

  • 在Hikone Site完成半导体生产设备工厂S3-3(SPE)
  • 广江利雄被任命为代表董事、社长兼首席执行官(Corporate)

2020年

  • 通过开发用于软包装的高速水性喷墨系统Truepress PAC 830F,强化面向包装印刷市场的产品线(GA)
  • 开发具有行业领先生产效率的刷洗型单片晶圆清洗系统SS-3300S(SPE)

2022年

  • 通过开发用于下一代图形加工的直接成像系统LeVina,进入先进封装领域(PE/HD)
  • 随东京证券交易所市场重组,公司在Prime Market上市(Corporate)
  • 推出SU-3400单片晶圆清洗系统(SPE)

2023年 在Hikone Site完成半导体生产设备工厂S3-4(Corporate)

  • 设立Takaoka Site(Corporate)

2024年 在Hikone Site完成半导体生产设备工厂S3-5(Corporate)

2025年

  • 在Hikone Site完成包含氢能相关部件生产空间的新厂房S3-6(Corporate)
  • 后藤正人被任命为代表董事、社长兼首席执行官(Corporate)
  • 与Tokyo Gas共同启动“PEXEM™”量产订单,该产品为一种高性价比水电解催化涂层膜(HD)
  • 在美国New York州Albany设立SCREEN Advanced Technology Center of America, LLC,作为半导体制造工艺的全球研发基地(Corporate)

斯库林集团 SCREEN Holdings Co., Ltd. (7735)美股投资

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 最后更新:2026-5-2
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  • 本文由 美股百科 发表于2023年5月23日
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