雷泰光电（雷泰克公司） Lasertec Corporation(OTCPK:LSRCY、LSRCF、TYO:6920)创立于1960年，前称NJS Corporation，于1986年改为现用名，总部位于日本横滨，全职雇员1,163人，致力于在日本、韩国、台湾、亚洲其他地区及美国从事检测与测量设备的研发、制造与销售业务。
#Lasertec Corporation
雷泰光电 Lasertec Corporation(LSRCY)美股百科
Lasertec Corporation是一家总部位于Yokohama的日本公司，专注于开发、制造和销售主要应用于半导体行业的检测与测量系统。在其细分领域，公司处于全球市场领先地位。Lasertec采用无晶圆厂战略，将生产外包给合作厂商，从而专注于研发。其股票在东京证券交易所上市，并被纳入Nikkei 225指数成分股。
Lasertec Corporation提供多种半导体相关产品，包括：用于Actinic EUV图形掩膜的检测系统、EUV掩膜基板检测与复检系统、掩膜检测系统、掩膜基板检测与复检系统、EUV薄膜检测系统、EUV掩膜背面检测与清洗系统，以及掩膜边缘检测系统；相位偏移与透射率测量系统、相位偏移测量系统；SiC晶圆检测与复检系统、GaN晶圆检测与复检系统、高灵敏度下层缺陷检测与复检系统、多波长晶圆检测系统、高灵敏度晶圆边缘检测系统、晶圆边缘尺寸测量系统、通孔深度测量系统、TSV背磨工艺测量系统，以及全自动晶圆测量系统。
此外，Lasertec Corporation还提供FPD光掩膜检测系统、用于CLIOS的薄膜检测与安装系统、FPD掩膜基板检测系统；以及各类显微镜产品，包括激光显微镜、电化学反应可视化共焦系统，以及用于超高温原位观察的共焦扫描激光显微镜。
雷泰光电 Lasertec Corporation(LSRCY)历史百科
雷泰光电公司成立于1960年，最初名为Tokyo ITV Laboratory，起初专注于为专用医疗设备开发和设计X射线摄像机。20世纪70年代，公司开始拓展至半导体行业光刻检测系统领域。1979年，公司在San Mateo设立分支机构，1980年在Düsseldorf设立分支机构。1986年，公司更名为Lasertec Corporation，并在San José成立美国子公司Lasertec U.S.A., Inc.。2004年，公司股票在Jasdaq证券交易所上市，2012年又在东京证券交易所实现二次上市。
- 1960年： 东京ITV实验室（Tokyo ITV Laboratory）成立，作为松下通信工业株式会社的分包商，开始设计和开发医用X射线电视摄像机。
- 1962年： NJS Corporation 成立，开始从事除X射线电视外的领先技术开发。
- 1971年： 推出首个自主品牌产品——张力分析仪。
- 1975年： 推出 LSI 光罩针孔检测系统，这是公司首款进入半导体行业的产品（全球首创）。
- 1976年： 推出 LSI 光罩检测系统“1MD1”（全球首创）。
- 1977年： LSI 光罩检测系统荣获日刊工业新闻社颁发的“1977年十大新产品奖”。
- 1979年： 在美国加州圣马特奥建立联络处；首次参加 SEMICON West 展会。、
- 1980年： 总部搬迁至横滨市纲岛；终止分包业务，自主品牌产品占销售额的100%；在德国杜塞尔多夫建立联络处。
- 1981年： 推出 LSI 分分板（Reticle）检测系统“2RD1”。
- 1985年： 推出 彩色激光扫描显微镜“2LM11”（全球首创）；在英国伦敦建立欧洲办事处。
- 1986年： 公司名称由 NJS Corporation 正式更改为 Lasertec Corporation；在美国圣何塞成立 Lasertec U.S.A., Inc.。
- 1990年： Lasertec 股票在日本证券业协会注册并在场外交易（OTC）市场上市（证券代码 6920）。
- 1993年： 推出液晶（LCD）彩色滤光片自动检测系统“1CF20”和自动修复系统“1RL20”。
- 1994年： 成立韩国分公司；推出相移测量系统“MPM100”（全球首创）。
- 1997年： 推出共聚焦显微镜“1HD200”。
- 2000年： 推出 MAGICS 系列掩模基板检测系统“M1320”。
- 2002年： 总部通过 ISO9001: 2000 认证。
- 2004年： 股票在 JASDAQ 上市。
- 2005年： 成立台湾办事处。
- 2006年： 合并销售额达到100亿日元。
- 2007年： 被《福布斯亚洲》评为“收入十亿美元以下最佳企业”。
- 2008年： 在新横滨建立新的总部和研发中心。
- 2009年： 推出 SiC 晶圆检测和复查系统“SICA61”；推出光伏电池转换效率分布测量系统。
- 2010年： 在新竹成立 Lasertec Taiwan, Inc.。
- 2012年： 股票在东京证券交易所（TSE）第二部上市；推出全球首款锂离子电池电化学反应可视化共聚焦系统。
- 2013年： 股票转入东京证券交易所第一部（主板）上市。
- 2017年： 在上海成立 Lasertec China Co., Ltd.（镭射科技中国）。
- 2017年，公司推出用于EUV掩膜检测的系统。Lasertec成为全球首家实现该类产品商业化的公司。相关光刻设备由荷兰公司ASML制造，而Lasertec的测量系统用于检测制造出的半导体是否达到量产标准，使其在半导体产业这一细分领域形成全球垄断地位。
- 2019年： 推出全球首款 A-EUV（极紫外光化）图案掩模检测系统“ACTIS A150”；在新加坡成立服务公司。
- 2020年： 被日本经济产业省评选为“2020年全球利基顶尖企业100强”。
- 2022年： 在新横滨收购地产，建设新的研发设施“Lasertec Innovation Park”。
- 2024年： Tetsuya Sendoda 就任公司社长。
- 2024年7月，做空机构Scorpion Capital指控公司存在欺诈行为，称其宣布的下一代EUV产品为“骗局”，并称其新建研发设施实际上处于闲置状态。
雷泰光电 Lasertec Corporation(LSRCY)美股投资
参考资料：
