离子注入机制造商：亚舍立科技 Axcelis Technologies(ACLS)

亚舍立科技Axcelis Technologies Inc.(NASDAQ:ACLS)创立于1978年，总部位于美国马萨诸塞州Beverly，全职雇员1388人，Axcelis Technologies, Inc. 在美国、欧洲和亚太地区设计、制造用于半导体芯片制造的离子注入和其他处理设备并提供服务。

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亚舍立科技Axcelis Technologies(ACLS)美股百科

Axcelis Technologies, Inc. 是一家美国公司，致力于为全球半导体制造业提供资本设备的设计、制造和服务。 它生产离子注入系统，包括高、中电流注入机和高能注入机，以及用于半导体芯片制造的固化系统。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

Axcelis Technologies前身成立于1995年，Axcelis于2002年从Eaton Corporation剥离出来独立上市，Axcelis Technologies, Inc.设计，制造和服务于全球半导体芯片制造中使用的离子注入和其他处理设备。该公司提供一系列高能量，高电流和中电流植入机，可满足各种应用需求。它还提供固化系统和热处理系统。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

Axcelis Technologies还提供售后生命周期产品和服务，包括二手工具、备件、设备升级、维护服务和客户培训。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

Axcelis Technologies通过其直销队伍向半导体芯片制造商销售其设备和服务。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

亚舍立科技Axcelis Technologies(ACLS)历史百科

2000年，Eaton SEO 更名为 Axcelis Technologies。 Eaton 提交注册声明，拟在 IPO 中分拆半导体设备部门，命名为 Axcelis Technologies, Inc。Eaton 于同年 12 月完成了 Axcelis Technologies 的完全剥离。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

2001年，推出Eterna ELS Ion Source， 改进的设计可延长 Axcelis 离子注入机的离子源寿命、降低运行成本并提高可靠性。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

2001年，Axcelis Technologies 推出 IntegraNET™ 数据集成和管理平台； 提供电子诊断和高级过程控制框架。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

2001年，Axcelis 推出用于 300mm 制造的 HC3 大电流注入机，完善了 300mm 注入产品系列，满足 100 纳米以上的所有注入应用要求 。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

2002年，Axcelis 收购 Tritek International，进军中国半导体行业。文章源自美股之家 | 美股百科 | 港美股开户投资-https://www.mg21.com/acls.html

2012 年 12 月 4 日，Axcelis Technologies 决定退出干法剥离业务，并将其干法剥离知识产权和技术，包括其 Integra 产品线的先进非氧化工艺技术，剥离给 Lam Research。

2012年，随着 Purion M 的发货，Purion 平台诞生了……并为 Axcelis 产品开发奠定了新的基础。

2013年，Purion XE 推出，采用 12 级 LINAC，能量高达 4.5 MeV。

2014年，Purion H 推出，具有独特的扫描点光束架构和五滤波器光束线设计 。

2015年，Axcelis通过回租协议出售了其总部。

2016年，推出 Purion M SiC。

2016年，Purion EXE 推出，配备 12 级 LINAC，能量高达 5.25 MeV。

2017年，推出 Purion H 80，扩展了传统高电流注入机的能量范围。

2017年，推出 Purion VXE，采用 14 级 LINAC，具有扩展的多次充电功能，可提供高达 8 MeV 的能量 。

2018年，推出 Purion Power 系列，具有独特的功能和过程控制功能，包括平台的硅、薄硅和碳化硅功能，这些功能为功率器件市场提供支持。

2019年，推出 Purion XEmax，专为新兴的高性能图像传感器应用而设计。 采用双 LINAC 设计和专利 Boost Technology™，最高能量可达 15 MeV 。

2019年，推出 Purion Dragon，专为前沿应用而设计，特别是低能量高剂量应用。

2019年，推出 Purion H200，提供高能量、高电流能力，瞄准功率器件市场。

2020年，推出 Purion XE 和 Purion VXE Power Series，专为大容量电源设备的铝植入而设计。 它们具有 150mm SiC 晶圆处理或 200mm 薄 Si 晶圆处理功能 。

2021年，退出Purion EXE Power Series SiC和Purion H200 Power Series SiC。其中包括高达 650°C 植入温度的机械夹具技术、主动预热和主动后冷却站。

2021年，退出GSD Ovation，将GSD系列平台的生产扩展到未来 。

2022年，Axcelis 亚洲运营中心在韩国开业。 新的清洁生产设施旨在增加亚太地区客户的产能并提高客户满意度。

2023年，Purion 平台现在能够支持 9 个产品主干的 18 种配置。

2023年，Axcelis 物流中心在马萨诸塞州贝弗利开业。 该中心占地 95,600 平方英尺，旨在优化 Axcelis 的仓库和物流运营，并为公司的制造业务提供灵活的产能 。

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